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國內(nèi)企業(yè)北方華創(chuàng)實(shí)力領(lǐng)先，公司28nm氮化鈦硬掩膜(HardmaskPVD)、Al-PadPVD設(shè)備已率先進(jìn)入中芯國際供應(yīng)鏈體系，成為國產(chǎn)PVD的佼佼者。

圖表8：PVD設(shè)備市場內(nèi)外資品牌格局

資料來源：各公司官網(wǎng)、韋伯咨詢

2、CVD設(shè)備

薄膜沉積常見工藝為化學(xué)氣相沉積(CVD)和物理氣相沉積(PVD)?；瘜W(xué)氣相沉積是通過氣體混合的化學(xué)反應(yīng)在硅片表面沉積一層固體膜的工藝。目前CVD需要用到CVD設(shè)備，包括APCVD(常壓CVD)、LPCVD(低壓CVD)和等離子體輔助CVD。

全球CVD市場上，應(yīng)用材料占據(jù)龍頭地位，全球市場份額達(dá)到30%，其次是東京電子和拉姆研究，市場集中度較高。

國內(nèi)市場上，北方華創(chuàng)的LPCVD，以及沈陽拓荊的PECVD，已通過主流晶圓代工廠驗(yàn)證，實(shí)現(xiàn)了小批量生產(chǎn)交付

圖表9：CVD設(shè)備市場中外資品牌格局

資料來源：Gartner、《半導(dǎo)體制造工藝》、韋伯咨詢整理

七、CMP設(shè)備

CMP（化學(xué)機(jī)械拋光）工藝指拋光機(jī)的拋光頭夾持住硅片相對(duì)拋光墊做高速運(yùn)動(dòng)，拋光液在硅片和拋光點(diǎn)之間連續(xù)流動(dòng)，拋光液中的氧化劑不斷接觸裸露的硅片表面，產(chǎn)生氧化膜，然后借助拋光液中的微粒機(jī)械研磨作用去除氧化膜。

CMP機(jī)臺(tái)市場被應(yīng)用材料和日本的Ebara高度壟斷，兩者市占率接近90%。

國內(nèi)市場上，華海清科和電科裝備45所是主要的研發(fā)力量。華海清科國產(chǎn)首臺(tái)8英寸CMP設(shè)備已實(shí)現(xiàn)出廠銷售。電科裝備45所自主研發(fā)的CMP商用機(jī)已在中芯國際天津公司進(jìn)行上線驗(yàn)證。

圖表10：CMP設(shè)備市場中外資品牌格局

資料來源：各公司官網(wǎng)、韋伯咨詢整理

八、檢測設(shè)備

1、質(zhì)量測量設(shè)備

半導(dǎo)體制造環(huán)節(jié)的檢測流程分為前道檢測和后道檢測。其中，前道檢測主要分為光學(xué)測量和缺陷檢測，統(tǒng)稱為質(zhì)量測量。

目前集成電路質(zhì)量測量設(shè)備全球主要的供應(yīng)商是科磊半導(dǎo)體(KLATencor)、應(yīng)用材料和日本日立，市占率分別為52%、12%和11%。市場競爭格局集中。

國產(chǎn)企業(yè)主要代表是上海睿勵(lì)科學(xué)和上海精測。睿勵(lì)科學(xué)具備光學(xué)膜厚測量系統(tǒng)、光學(xué)關(guān)鍵尺寸和形貌測量系統(tǒng)，國內(nèi)技術(shù)領(lǐng)先。2014年獲得三星數(shù)臺(tái)訂單，并于2018年獲得三星的重復(fù)訂單。上海精測開發(fā)了適用于半導(dǎo)體工業(yè)級(jí)應(yīng)用的膜厚測量以及光學(xué)關(guān)鍵尺寸測量系統(tǒng)。

圖表11：質(zhì)量測量設(shè)備企業(yè)全球市場份額情況

資料來源：科磊半導(dǎo)體、韋伯咨詢整理

2、電學(xué)檢測設(shè)備

后道檢測主要為電學(xué)檢測，核心設(shè)備包括測試機(jī)、探針臺(tái)和分選機(jī)。

目前，電學(xué)檢測設(shè)備市場集中度很高，其中測試機(jī)主要被愛德萬和泰瑞達(dá)壟斷，分選機(jī)被愛德萬、科休半導(dǎo)體、愛普生等企業(yè)壟斷，探針臺(tái)被東京電子、東京精密和伊智所壟斷。國內(nèi)龍頭長川科技已經(jīng)布局測試機(jī)和分選機(jī)市場，積極研發(fā)探針臺(tái)。華峰測控主要產(chǎn)品為測試機(jī)，是國內(nèi)大的半導(dǎo)體測試機(jī)供應(yīng)商。上海中藝主要產(chǎn)品為分選機(jī)。’

圖表12：國內(nèi)外電學(xué)檢測設(shè)備主要競爭企業(yè)名單

資料來源：各公司官網(wǎng)、韋伯咨詢整理

九、清洗設(shè)備

硅片清洗的目標(biāo)是去除所有表面沾污，包括顆粒、有機(jī)物、金屬和自然氧化層。目前占統(tǒng)治地位的硅片清洗方法是濕法清洗。濕法清洗設(shè)備分為單片清洗設(shè)備和槽式清洗設(shè)備，槽式清洗設(shè)備可以批量清洗硅片，但是可能會(huì)導(dǎo)致互相污染現(xiàn)象。

全球清洗設(shè)備龍頭迪恩士、東京電子和拉姆研究，CR3接近90%，其中迪恩士一家占比超過50%，是絕對(duì)的龍頭。

國內(nèi)企業(yè)中，盛美半導(dǎo)體是國產(chǎn)清洗設(shè)備的優(yōu)秀代表，主流產(chǎn)品得到國際一流品牌包括中芯國際、長江存儲(chǔ)、SK海力士等企業(yè)的認(rèn)可。至純科技正在積極布局集成電路清洗設(shè)備。

圖表13：清洗設(shè)備市場中外資品牌格局

資料來源：TMr、公司官網(wǎng)、韋伯咨詢

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